自组生长硅纳米管的合成及其稳定性  

作　　者：唐元洪[1] 裴立宅[1] 陈扬文[1] 郭池[1] 

机构地区：[1]湖南大学 材料科学与工程学院,湖南长沙410082

出　　处：《功能材料信息》2005年第6期21-25,共5页Functional Materials Information

摘　　要：本文介绍了自组生长硅纳米管的制备,并采用5wt%的HF酸对其稳定性进行了研究。 HF酸可去除自组生长硅纳米管的氧化物外层,只剩下晶体硅纳米管。这说明制备的硅纳米管是一种稳定结构,因而对其应用研究开发成为可能。研究表明,硅纳米管的稳定性与其形成生长过程密切相关。自组生长硅纳米管在纳米器件及场发射显示屏等方面具有广泛的应用前景。

关 键 词：自组生长硅纳米管 水热法 稳定性 腐蚀 应用前景 

分 类 号：TB383[一般工业技术—材料科学与工程] TM914.4[电气工程—电力电子与电力传动]