400keV离子注入机中磁分析器的特殊设计  

作　　者：王克明[1] 刘清前[1] 张乃健[1] 陈鄂生[1] 张永恩 

机构地区：[1]山东大学物理系

出　　处：《中国科学（A辑）》1989年第2期203-209,共7页Science in China(Series A)

摘　　要：本文描述了400 keV离子注入机中磁分析器的特殊设计。在设计中采用了不对称双聚焦条件,并使磁分析器的横向物点是实的,纵向物点是虚的,然后用静电二元四极透镜来实现离子源初聚系统与磁分析器之间的光路匹配。这样设计的磁分析器体积小、质量分辨率高。本机的质量分辨率为200,即能分辨汞离子的六个同位素,实际的测试结果与分辨率的计算值很一致,这表明理论计算是相当成功的。

关 键 词：离子注入机 磁分析器 设计 

分 类 号：TN305.3[电子电信—物理电子学]