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作 者:牛晓宇[1] 吴谊群[2] 陈耐生[1] 黄金陵[1]
机构地区:[1]福州大学功能材料研究所,福州350002 [2]黑龙江大学化学化工学院
出 处:《应用化学》2006年第2期153-156,共4页Chinese Journal of Applied Chemistry
基 金:国家自然科学基金(20141001);黑龙江省自然科学基金(B01-07)资助项目
摘 要:研究了4种轴向为烷氧基配位的萘酞菁硅配合物(NcS i(OR)2,R为CH3、C2H5、C3H7和C4H9)在DMSO、DMF、CH2C l2中的Q带吸收光谱和光降解动力学及其稳定性。研究结果表明,这4种萘酞菁配合物在相同溶剂中随着轴向配位烷氧基碳链的增长其最大吸收波长逐渐增加,并且在DMSO、CH2C l2溶剂中随着轴向配位烷氧基碳链的增长光稳定性逐渐增强;对于同一配合物,溶剂对其光稳定性影响顺序为:DMSO>CH2C l2>DMF。The UV spectra, photo-degradation kinetics, and photostability of four axially alkoxy substituted naphthalocyanine silicon compounds ( SiNc (OR) 2, R = CH3, C2 H5, C3 H7 and C4 Hg) were investigated in DMSO, DMF and CH2Cl2, respectively. The results indicate that the maximal absorption bands of the compounds increase with increased carbon number of the axially alkoxy substituted groups in the same solvent. Moreover, the photostability also gradually increase with increased carbon number of the axially alkoxy substituted groups in DMSO and CH2Cl2. The photostability order for the same SiNc (OR)2 compound in different solvent is: DMSO 〉 CH2Cl2 〉 DMF.
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