离子注入铅的铝电极腐蚀的交流阻抗研究  

THE EIS STUDY OF ALUMINUM ELECTRODE WITH ION IMPLANTATION OF LEAD

作　　者：余强[1] 司云森[1] 曾初升[1] 

机构地区：[1]昆明理工大学,昆明650093

出　　处：《腐蚀与防护》2006年第1期18-19,22,共3页Corrosion & Protection

摘　　要：通过测量25℃时1.28g/ml硫酸溶液中铝电极和离子注入铅的铝电极的交流阻抗谱,研究了铅离子注入量对铝电极的腐蚀速率的影响。在此基础上,测量了离子注入铅的铝电极和铝电极在同种介质中的Tafel曲线,辅助交流阻抗法研究电极的腐蚀行为。以此总结出离子注入铅的铝电极的耐腐蚀性能,并探讨了它的腐蚀机理。The impedance spectroscopy and Tafel curves of the aluminum electrode and aluminum electrode with ion implantation of lead in 1.28g/ml H2 SO4 at 25℃ were measured. The corrosion mechanism was discussed.

关 键 词：离子注入铅 铝电极 腐蚀 阻抗谱 Tafel曲线 

分 类 号：TG172.2[金属学及工艺—金属表面处理]