低温等离子体技术应用研究进展  

Advances in applied low-temperature plasma technology

作　　者：孟月东[1] 钟少锋[1] 熊新阳 

机构地区：[1]中国科学院等离子体物理研究所,合肥230031 [2]新疆天业集团,石河子832000

出　　处：《物理》2006年第2期140-146,共7页Physics

基　　金：国家自然科学基金(批准号:10275089)资助项目

摘　　要：介绍了低温等离子体发生技术及原理,对近几年低温等离子体技术应用研究的一个新生的领域-高分子等离子体化学的研究进展进行了概述,内容涉及等离子体聚合、合成、接枝、纳米粒子/粉体包覆、等离子体增强沉积生物适合层及低温等离子体灭菌技术.The generation of low-temperature plasma and its principle are described, and recent advances of applied low-temperature plasma technology in the emerging field of macromolecular plasma chemistry are reviewed., These applications involve plasma polymerization, synthesis, grafting, nanopariicle/powder cover, plasma-enhanced deposition of biocompatible layers, and low temperature plasma sterilization.

关 键 词：等离子体 接枝 聚合与合成 灭菌 

分 类 号：O539[理学—等离子体物理]