一种新型纳米光栅传感器的理论研究  

Theory Study of a New Nanometrology Grating

作　　者：马修水[1] 费业泰[1] 陈晓怀[1] 赵静[1] 

机构地区：[1]合肥工业大学仪器仪表学院

出　　处：《仪器仪表学报》2006年第2期159-164,共6页Chinese Journal of Scientific Instrument

基　　金：国家自然科学基金(50275047);安徽省教育厅自然科学基金(2003kj004);安徽省重点实验室基金;安徽大学211工程学术创新团队资助项目

摘　　要：为了开发结构简单,抗干扰能力强的纳米测量精度光栅传感器,对基于二次莫尔条纹信号的纳米测量精度光栅传感器的测量原理进行了理论分析,通过仿真计算,其测量分辨力可达到5.40×10-10m,测量精度可达到纳米级。此外,对指示光栅和标尺光栅不平行时对二次莫尔条纹信号质量的影响进行了理论分析和仿真计算。In order to develop metrological grating with nano measurement precision,which has simple structure, high performance on anti-interfere,the measurement principle of nano measurement precision grating is analyzed based on two times＇ Moire fringe,its resolution can achieve 5.40 〉 10^-10m,and the measurement precision can achieve nanometer through simulated calculation. Furthermore,it discusses the effects of two times＇Moire fringe when the indicator grating and scales grating is not parallel.

关 键 词：纳米测量 二次莫尔条纹 光栅传感器 仿真 

分 类 号：TH753.6[机械工程—仪器科学与技术]