论顋CVD技术  

作　　者：刘兆云 

机构地区：[1]新化无线电设备厂

出　　处：《半导体技术》1990年第2期45-48,共4页Semiconductor Technology

摘　　要：一、发展概况 1974年莫托洛拉公司引进LPCVD用于半导体工业,尔后又引进了LTO系统及等离子增强CVD技术,CVD技术得到了惊人的发展。据统计在1980年世界销售的化学气相淀积(CVD)设备已达一亿美元,超过了当年扩散炉的销售额。 关于PCVD(Piama Chemical VaporDeposition等离子化学气相淀积)技术的研究,1965年美国的H·F·Sterling进行了射频辉光放电下的CVD试验;1974年A·R·

关 键 词：PCVD技术 半导体 沉积薄膜 

分 类 号：TN304.05[电子电信—物理电子学]