适用于256MDRAM的溅射设备──PRIMUS─2500  

作　　者：席秉钧 

出　　处：《电子工业专用设备》1996年第3期52-59,共8页Equipment for Electronic Products Manufacturing

摘　　要：随着ＶＬＳＩ设计尺寸的细微化，关于布线层的形成，有许多难题迫切需要解决。本文就该公司在用于２５６ＭＤＲＡＭ的溅射设备ＰＲＩＭＵＳ──２５００上解决这些问题的情况加以叙述。

关 键 词：VLSI 设计 测射设备 

分 类 号：TN470.2[电子电信—微电子学与固体电子学] TN305.92