光栅纳米测量的研究与进展  

作　　者：马修水[1] 费业泰[1] 陈晓怀[1] 李桂华[1] 权继平[2] 

机构地区：[1]合肥工业大学仪器仪表学院,安徽合肥230009 [2]安徽大学测量与控制工程系,安徽合肥230039

出　　处：《仪表技术与传感器》2006年第4期53-55,共3页Instrument Technique and Sensor

基　　金：国家自然科学基金资助项目(50275047);安徽省重点实验室基金资助项目:安徽省教育厅自然科学基金资助项目(2003kj004);安徽大学"211工程"创新团队资助项目

摘　　要：概括分析了光栅纳米测量中双光栅测量系统、炫耀光栅测量系统、基于误差修正技术的纳米光栅测量系统的测量原理及其关键技术,重点讨论了基于二次莫尔条纹原理的纳米光栅测量系统的测量原理。在对上述各测量系统分析研究的基础上,指出光栅纳米测量进一步研究的关键在于:研究基于新型测量原理的光栅纳米测量系统,研制光栅纳米测量系统的精密机械调整机构、光电信号处理和细分技术、误差分离和修正技术等。

关 键 词：光栅纳米测量 双光栅测量系统 炫耀光栅 误差修正技术 二次莫尔条纹 

分 类 号：TH741.7[机械工程—光学工程]