蘸笔纳米光刻术的新应用  

Novel Application of Dip-pen Nanolithography

作　　者：梁蕾[1] 刘之景[1] 

机构地区：[1]中国科学技术大学近代物理系,合肥230026

出　　处：《现代科学仪器》2006年第2期10-13,共4页Modern Scientific Instruments

摘　　要：蘸笔纳米光刻术(Dip-pennanolithography,DPN)利用原子力显微镜(AFM)的探针把“墨水”分子传输至基底表面,使之形成自组装单分子层。DPN作为一种在物质表面构造纳米结构的技术,以其高分辨率、定位准确和直接书写等优点,在物理、化学、生物等领域的纳米尺度研究中得到了广泛应用。本文着重综述近年来DPN在纳米电路、生物芯片、化学检测、催化反应、纳米刻蚀等方面的新应用,以及它在实验研究中取得的新进展,分析了相应实验的原理,展示了这种技术的优势和发展前景。Dip-pen Nanolithography（DPN） uses the atomic microscopy（AFM） tip to deliver the ink to the substrate where the self-assembled monolayers（SAM） is formed afterward.AS a pattenning technology, DPN is now widely used in the nanoscale research in physics,chemistry,biology and so on because of its high resolution,registration and direct-write ability. The novel application of DPN on the nanoscale circuits,biological chips,chemical examination,catalysis,nanoscale etching and some other aspects is reviwed and the principle of relative experiments is analyzed.At last,the future development of DPN technique is introduced.

关 键 词：蘸笔纳米光刻术 自组装单分子层 直接书写 定位精确 高分辨率 

分 类 号：TB383.1[一般工业技术—材料科学与工程]