沉积在Pt电极上的铁电PZT薄膜特性  

作　　者：黄龙波[1] 李佐宜[1] 卢德新[1] 

机构地区：[1]华中理工大学固体电子学系

出　　处：《真空科学与技术》1996年第3期212-216,共5页Vacuum Science and Technology

摘　　要：研究了射频磁控溅射沉积在Pt电极上的Pb（Zr0．53Ti0．47）O3薄膜特性。经过不同温度退火处理后得到了钙钛矿结构的PZT薄膜。在对其结构的形成和变化进行研究的基础上，探讨了薄膜PZT相的形成机理。其电性能的测试表明，这种铁电PZT（53／47）薄膜具有较好的铁电性能和疲劳特性。在600℃下PZT薄膜的剩余极化强度Pr为24．8μC／cm2，矫顽场强度Ec为70kV／cm。210kV／cm的电场下，疲劳循环直到4×108次时，最大极化强度仍有20．6μC／cm2，降低了约34％，其剩余极化强度保持为10μC／cm2左右。

关 键 词：铁电 薄膜 射频磁控溅射 特性 PZT 

分 类 号：TM27[一般工业技术—材料科学与工程] O484.1[电气工程—电工理论与新技术]