电沉积NiHCF薄膜的离子选择性研究  

Study on Ion Selectivity of Nickel Hexacyanoferrate Thin Films for Electrochemically Switched Ion Exchange

作　　者：郭金霞[1] 郝晓刚[1] 张玫[1] 张忠林[1] 马旭丽[1] 

机构地区：[1]太原理工大学化学工程与技术学院,山西太原030024

出　　处：《太原理工大学学报》2006年第3期334-337,341,共5页Journal of Taiyuan University of Technology

基　　金：国家自然科学基金资助项目(20006011);山西省自然科学基金资助项目(20021017);回国留学人员基金资助项目(2004-24)

摘　　要：采用电沉积方法在铂、铝基体上制备出具有电化学控制离子交换(ESIX)性能的电活性NiHCF(Nickel Hexacyanoferrate)薄膜,在1 mol/L(NaNO3+CsNO3)和1 mol/L(KNO3+Cs-NO3)混合溶液中分别测定了不同Cs+浓度下薄膜的伏安特性曲线和电化学交流阻抗谱,并根据CV曲线和EIS曲线的变化特征分析了薄膜对Cs+/K+和Cs+/Na+离子的选择性。结果表明,交流阻抗技术与循环伏安法相结合可较好地用来表征混合溶液中离子膜的选择性。The electroactive NiHCF thin films for electrochemically switched ion exchange （ESIX） were deposited cathodically on Pt and Al substrates. Cyclic voltammogram （CV） and electrochemical impedance spectra （EIS） are determined in 1 mol/L （KNO3 ＋CsNO3） and 1 mol/ L （NaNO3 ＋CsNO3） mixture solutions. The ion selectivity （Cs^＋/K^＋ and Cs^＋/Na^＋） of NiHCF thin film is investigated based on the change characteristic of CV and EIS curves. Experimental results show that EIS combining CV curves can be used to analyze the ion selectivity of thin films rightly.

关 键 词：电化学控制离子交换 铁氰化镍薄膜 电化学阻抗图谱 离子选择性 

分 类 号：TQ035[化学工程] TB43[一般工业技术]