检索规则说明:AND代表“并且”;OR代表“或者”;NOT代表“不包含”;(注意必须大写,运算符两边需空一格)
检 索 范 例 :范例一: (K=图书馆学 OR K=情报学) AND A=范并思 范例二:J=计算机应用与软件 AND (U=C++ OR U=Basic) NOT M=Visual
机构地区:[1]浙江大学超大规模集成电路设计研究所,杭州310027
出 处:《Journal of Semiconductors》2006年第5期819-823,共5页半导体学报(英文版)
基 金:国家自然科学基金(批准号:90207002);国家高技术研究发展计划(批准号:2002AA1Z1460)资助项目~~
摘 要:We describe a post resolution-enhancement-technique verification method for use in manufacturing data flow. The goal of the method is to verify whether designs function as intended,or more precisely, whether the printed images are consistent with the design intent. The process modeling is described for the model-based verifi cation method. The performance of the method is demonstrated by experiment.描述了一种采用分辨率提高技术后用于可制造性设计的验证方法.该方法的目的是验证设计功能与设计目的是否一致,更精确地说,使刻印出来的图像与设计一致.还描述了这种基于模型的验证方法的过程建模,实例说明这种方法的性能.
关 键 词:verification for manufacturing resolution enhancement technique optical proximity correction
分 类 号:TN402[电子电信—微电子学与固体电子学]
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