基于印刷碳纳米管薄膜阴极的场发射显示器发光稳定性的提高  

作　　者：曾凡光[1] 朱长纯[1] 刘兴辉[1] 刘卫华[1] 

机构地区：[1]西安交通大学电子与信息工程学院,西安710049

出　　处：《中国科学（E辑）》2006年第5期507-514,共8页Science in China(Series E)

基　　金：国家自然科学基金(批准号:60036010;60476037);国家863计划(批准号:2001AA313090);教育部博士点基金(批准号:20020698014)资助项目

摘　　要：针对印刷CNT薄膜中CNT与衬底的不良接触对发光稳定性的影响,提出了一种可改善器件发光稳定性的阴极共烧结制造工艺.通过对银浆印刷层和CNT印刷层采用的共烧结处理,在CNT和银导电衬底接触部位可形成几何匹配或产生CNT镶嵌于银层的结构,在薄膜顶部则形成CNT团聚物与银块互相嵌套的结构.这些结构使CNT与银导电层的接触面积增加,形成欧姆接触的可能性大大提高,从而使采用共烧结阴极制造的器件在高亮度下的发光稳定性及寿命较采用普通阴极的器件提高5.6倍.

关 键 词：印刷碳纳米管薄膜 场发射显示器 发光稳定性 阴极共烧结工艺 

分 类 号：TB383.1[一般工业技术—材料科学与工程]