磁化处理对Ni-P化学镀层的影响  

作　　者：王维东[1] 胡秀莲[1] 曲峰 郭宏峰 李建友 史鹏 

机构地区：[1]石油大学机械系

出　　处：《表面技术》1996年第2期19-20,共2页Surface Technology

摘　　要：将Ni-P化学镀液磁化处理后施镀,获得了结构致密、孔隙率低、耐腐蚀性强、外观良好的化学镀层,并对这一现象的形成机理进行初步的分析。

关 键 词：化学镀 孔隙率 镍磷镀层 磁化处理 

分 类 号：TG174.44[金属学及工艺—金属表面处理]