田口方法在离子镀上的应用展望  

作　　者：曾凤章[1] 徐新乐 吴玉广 

机构地区：[1]北京理工大学管理学院,兵器总公司新技术推广研究所

出　　处：《新技术新工艺》1996年第5期47-48,共2页New Technology & New Process

摘　　要：文章介绍了田口方法的发展情况以及主要内容，展望了田口方法在离子镀上的应用前景，为离子镀技术的发展提供了一种先进的质量工程方法。

关 键 词：田口方法 离子镀 薄膜 制备 

分 类 号：TG174.442[金属学及工艺—金属表面处理]