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作 者:肖田[1] 林明通[1] 陈国荣[1] 杨云霞[1] 徐毅 陈晨曦 楼均辉
机构地区:[1]华东理工大学材料科学与工程学院,上海200237 [2]上海广电电子股份有限公司,上海200081
出 处:《光电子技术》2006年第2期88-90,共3页Optoelectronic Technology
摘 要:非对称绝缘层无机EL显示器件是一种新颖的器件结构。成功制备了一批ZnS:Mn器件,其下介质层为厚100-200nm的SrTiO3(ST)或Ba0.5Sr0.5TiO3(BST)或Ta2O5薄膜,上介质层为厚600~1100nm的Ta2O5或ST/Ta2O5或HfO2/Ta2O5/Al2O3薄膜。发现以ST/Ta2O5为上介质层的器件具有适当的阈值电压、较高的L50和较陡的L—V曲线,以HfO2/Ta2O5/Al2O3为上介质层的器件具有较高的可靠性。Novel EL devices with asymmetric insulating layers were prepared and the luminescent performance was investigated in this article. The lower dielectric layers were 100-200 nm thick SrTiO3(ST), Ba0.5Sr0.5TiO3(BST) or Ta2O5 thin films, and the upper dielectric layers were 600- 1 100 nm thick Ta2O5, ST/Ta2O5 or HfO2/Ta2O5/Al2O3 thin films. The EL devices with ST/Ta2O5 as the upper insulating layer showed moderate threshold voltage and higher L50, while the devices with HfO2/Ta2O5/Al2O3 as the upper insulating layer exhibited higher reliability.
关 键 词:薄膜电致发光器件 不对称绝缘层 阚值电压 L—V曲线
分 类 号:TN104.3[电子电信—物理电子学]
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