利用相位掩膜技术制备光纤光栅的紫外曝光系统  

UV EXPOSURE EQUIPMENT OF FABRICATING FIBER GRATING BY A PHASE MASK

作　　者：李燕[1] 梁国栋[1] 徐迈[1] 王庆亚[1] 孙英志 张建 张玉书 

机构地区：[1]中国科学院长春物理研究所,中国科学院激发态物理开放实验室,集成光电子学国家重点联合实验室吉林大学分区,长春邮电学院

出　　处：《发光学报》1996年第3期266-271,共6页Chinese Journal of Luminescence

基　　金：集成光电子学国家重点联合实验室资助

摘　　要：利用相位掩膜技术制备光纤光栅的紫外曝光系统李燕，梁国栋，徐迈（中国科学院长春物理研究所，长春１３００２１）（中国科学院激发态物理开放实验室，长春１３００２１）王庆亚，孙英志，张建，张玉书（集成光电子学国家重点联合实验室吉林大学分区，长春１３００２３）...It is reported in this paper that Bragg gratings are successfully fabricated on national 202 positive photoresist by excimer laser of 248 urn wavelength through a phase mask. The effect of this UV exposure equipment suitable for fabrication of fiber Bragg grating reflector is demonstrated perfectly.

关 键 词：光纤 光栅 相位掩膜技术 

分 类 号：TN253[电子电信—物理电子学]