10，6μmGe－Ag－Ni空心波导射频溅射镀膜的一种新方法  

A NOVEL METHOD OF RF SPUTTERING FOR FABRICATION OF 10.6μm Ge-Ag-Ni HOLLOW WAVEGUIDE

作　　者：叶玉堂[1] 叶莉娜[1] 王瑞峰[1] 陈冠华 沈晓 洪永和 

机构地区：[1]电子科技大学

出　　处：《应用科学学报》1996年第4期488-492,共5页Journal of Applied Sciences

基　　金：国防科工委和电科院资助

摘　　要：该文提出一种射频溅射镀膜的新方法，讨论了该方法对小孔径１０．６μｍＧｅ－Ａｇ－Ｎｉ空心波导制作的意义，利用该方法已制成样品，同时给出并比较了几个不同孔径样品的光透射率．A novel method of RF sputtering is discribed. The usefulness forthe fabrication of the 10.6μm Ge-Ag-Ni hollow waveguide with a small diameterof the method is discussed. Some samples have been fabricated using the method andthe transmittance of the samples with different waveguide diameters is presented.

关 键 词：空心波导 射频溅射镀膜 镀膜 软波导 

分 类 号：TN814.2[电子电信—信息与通信工程]