纳米测量精度光栅传感器研究综述  

Research on the Summarization of Nanometrology Measuring Based on Grating

作　　者：马修水[1] 费业泰[2] 陈晓怀[2] 李桂华[3] 权继平[3] 

机构地区：[1]浙江大学宁波理工学院,浙江宁波315100 [2]合肥工业大学仪器科学与光电工程学院,安徽合肥230009 [3]安徽大学测量与控制工程系,安徽合肥230039

出　　处：《制造技术与机床》2006年第9期69-72,共4页Manufacturing Technology & Machine Tool

基　　金：国家自然科学基金资助项目(编号:50275047);安徽省重点实验基金资助项目;安徽省教育厅自然科学基金资助项目

摘　　要：概括分析了光栅纳米测量中双光栅测量系统、炫耀光栅测量系统、基于误差修正技术的光栅纳米测量系统、基于二次莫尔条纹原理的纳米光栅测量系统的测量原理,介绍了纳米测量精度光栅传感器研究的关键技术。This paper analyses the measuring principles of measuring system of dual grating, measuring system of blazed grating, nanometrology measuring system of grating based on error correction methods and nanometrology measuring system of grating based on two times Moire＂ fringe. And this paper introduces the key technology for further research on nanometrology measuring based on grating.

关 键 词：光栅纳米测量 双光栅测量系统 炫耀光栅 误差修正技术 二次莫尔条纹 

分 类 号：TP274[自动化与计算机技术—检测技术与自动化装置] TP212[自动化与计算机技术—控制科学与工程]