热壁低压化学汽相淀积的安全性探讨  

作　　者：程开富[1] 

机构地区：[1]机电部第四十四研究所

出　　处：《电子工业专用设备》1989年第4期51-54,共4页Equipment for Electronic Products Manufacturing

摘　　要：对于热壁低压化学汽相淀积(LPCVD)技术,安全性是不可缺少的一个重要方面。本文就热壁LPCVD技术中常用气体的化学性质和物理方法进行说明。只要操作人员充分理解其气体在使用过程中的危险性,并采取适当措施,LPCVD技术才是安全的。

关 键 词：化学气相淀积 低压 热壁 安全性 

分 类 号：TN405.986[电子电信—微电子学与固体电子学]