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机构地区:[1]浙江万里学院应用物理研究所,浙江宁波315100 [2]张家口教育学院宣化分校,河北张家口075100
出 处:《应用光学》2006年第5期428-432,共5页Journal of Applied Optics
基 金:宁波市自然科学基金资助项目(2006A610022)
摘 要:通过讨论超快飞秒激光脉冲和长脉冲宽度的激光脉冲紧导致宽能隙透明电介质的损伤机理和比较超短激光脉冲与长激光脉冲对宽能隙透明电介质的损伤程度,得出超短激光脉冲是一种可对透明宽带电介质进行加工的有效工具的结论。当波长为800 nm,脉冲宽度为150 fs的激光脉冲紧聚焦到不同的宽能隙透明电介质(K 9玻璃和ZK 6玻璃)体内时,可制作不同光栅常数的光栅,并在波长为635 nm的H e-N e连续激光的垂直照射下,对光栅的远场相对衍射效率和光栅的衍射效率进行了测量。Through discussion on the damage mechanism of wide-band optical transparent dielectrics and comparison of the damage levels of wide-band optical transparent dielectrics ablated by ultra-short laser pulses and long laser pulses, a powerful tool applicable to processing wide-band optical transparent dielectrics with ultrashort laser pulse is obtained. When laser pulse with wavelength of 800 nm and pulse time of 150 fs is focused into the inside of transparent dielectrics (K9 glasses and ZK6 glasses) with different band widths, the gratings with different constants can be made. The far-field relative diffraction efficiency and the diffraction efficiency of the grating were measured under the vertical illumination of He-Ne CW laser at 635 nm.
分 类 号:TG665[金属学及工艺—金属切削加工及机床]
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