对高纯度硅烷中气态杂质和金属杂质的纯化技术和分析方法  

作　　者：Tayl.,PA 李承耀 

出　　处：《低温与特气》1996年第3期43-49,54,共8页Low Temperature and Specialty Gases

摘　　要：对高纯度硅烷中气态杂质和金属杂质的纯化技术和分析方法ＰａｔｒｉｃｋＡＴａｙｌｏｒ半导体制造商已经长期用硅烷制成硅的薄膜或者硅化合物。将来更高集成度的和更复杂的集成电路，以及如光生伏打电池等新器件，都要求硅烷有非常高的纯度，其规定杂质为１０－１２（ｐｐ...

关 键 词：硅烷 气态杂质 金属杂质 纯化 

分 类 号：TQ264.1[化学工程—有机化工]