LIA注入器发射度增长机理研究及其抑制措施  

作　　者：代志勇 国智元 章林文 

出　　处：《中国工程物理研究院科技年报》2004年第1期40-41,共2页Annual Report of China Academy of Engineering Physics

摘　　要：闪光X光照相是强流直线感应加速器（LIA）目前最重要的应用之一。为了获得更小的焦斑尺寸以达到精密照相的目的，减小LIA的发射度成为主要的技术途径之一，因此首先要求作为LIA束源的注入器能提供低发射度的带电粒子束。本文从非线性作用力导致束剖面电流密度分布变化的角度对注入器发射度的演变进行研究，根据研究揭示的规律提出相应的抑制发射度增长的措施。

关 键 词：发射度增长 注入器 LIA 增长机理 强流直线感应加速器 非线性作用力 X光照相 带电粒子束 

分 类 号：TL501.5[核科学技术—核技术及应用]