BB-520型全息介质的线性处理工艺  

作　　者：李作友 叶雁 钟杰 刘振清 郑贤旭 罗振雄 李泽仁 

出　　处：《中国工程物理研究院科技年报》2004年第1期240-240,共1页Annual Report of China Academy of Engineering Physics

摘　　要：全息介质的处理技术和工艺研究是全息测试技术的关键环节，美国LANL实验室在进行Holog次临界试验时曾因散射光使记录介质严重过曝而未能获取相关信息。通过对BB-520型全息记录介质的曝光、显影、定影、水洗等工艺过程的处理液配方、处理环境、处理温度、处理时间等的研究，提出全息记录介质的处理方法。曝光量和显影时间、显影温度是相互关联的3个量，在一定范围内曝光量饱和不足时，可以通过调节显影时间和显影温度两个参数来补偿。

关 键 词：全息记录介质 工艺过程 线性处理 显影时间 测试技术 显影温度 次临界试验 曝光量 

分 类 号：TQ577.41[化学工程—精细化工]