激光对金属电沉积的影响  

作　　者：向国朴[1] 李增智[2] 

机构地区：[1]天津大学应用化学系 [2]天津大学物理系

出　　处：《电镀与精饰》1990年第1期18-19,25,共3页Plating & Finishing

摘　　要：激光,由于其具有高能量密度、高单色性及良好的相干性能而在众多领域中获得了越来越广泛地应用.近年来,关于激光对金属电沉积的影响,国外已有若干文章报导.从报导的材料来看,激光对金属电沉积的影响是显而易见的.在正常的电镀情况下,激光可提高金属沉积的速率.如果将激光照射在与激光束截面积相当的阴极表面上,可使金属电沉积的速率提高三个数量级.另外,即使不加槽电压,直接将激光束照射到浸泡在电解液中的某些半导体材料或有机物上,在激光照射的区域。

关 键 词：激光 金属 电沉积 电镀 

分 类 号：TQ153[化学工程—电化学工业]