力学其他学科：真空辐射加热基片的温度分布  

Thetemperature distribution in a substrate radiatively heated in vacuum

作　　者：李帅辉[1] 舒勇华 唐锦荣 樊菁 

机构地区：[1]中国科学院力学研究所高温气体动力学重点实验室,北京100080 [2]不详

出　　处：《中国学术期刊文摘》2006年第19期46-46,共1页Chinese Science Abstracts(Chinese Edition)

摘　　要：真空辐射加热下基片表面温度分布的均匀性是薄膜制备中的关键问题之一．采用数值计算和比色红外测温两种方法，研究了作者自行研制的真空辐射加热器（LMCAS．VRH）的性能．利用IMCAS—VRH加热直径6in的单晶硅基片，当电功率为3860W时，基片表面平均温度为1093K，整个基片上的温度变化的测量值约为6K．基片表面温度分布的计算结果与测量数据符合得很好，进一步的计算分析表明钼丝对辐射的遮挡效应、隔热屏和基片热传导等对基片温度分布均匀性有重要影响．

关 键 词：薄膜气相沉积 真空辐射加热 基片温度分布 

分 类 号：O484[理学—固体物理]