装饰镀铬层退镀工艺探讨  

作　　者：唐春华 

出　　处：《电镀与涂饰》1990年第2期45-49,共5页Electroplating & Finishing

摘　　要：装饰镀铬层退镀工艺一直是生产难题之一.近几年,人们从添加剂和机理方面深入研究,出现了较先进的退镀工艺,特别铜—镍(或镍铁)—铬一次性退镀的工艺已有所进展.本文就退镀的基本原理及实用工艺作一粗试的探讨.一、退镀的原理与工艺选择1.退镀的基本过程退镀可分用化学和电解两种方法.化学退镀的实质是利用有氧化活性的氧化剂将退镀金属氧化为金属离子,络合剂将游离金属离子络合,以降低界面及溶液本体中的金属离子,从而维持一定的化学势,使界面反应进行,在镀层退除并露出基体金属时。

关 键 词：装饰 镀铬 镀层 退镀 

分 类 号：TQ153.11[化学工程—电化学工业]