高光敏性酞菁氧钛及光电器件制备工艺研究  

Study on preparation of high photosensitive TiOPc and photoconducting device

作　　者：卞曙光[1] 余银霞[1] 陈建峰[1] 

机构地区：[1]纳米材料先进制备技术与应用科学教育部重点实验室,北京化工大学,北京100029

出　　处：《高技术通讯》2006年第10期1047-1050,共4页Chinese High Technology Letters

基　　金：863计划（2004AA302010）资助项目

摘　　要：研究了高光敏性TiOPc及其光导器件的制备工艺.研究结果表明,以邻二氯苯/水为晶型调节剂,经减压加热干燥可制得高光敏性Y-TiOPc;以Y-TiOPc为载流子产生材料,以2丁酮为分散剂,在m（TiOPc）：m（PVB）=1：1时制得光电器件载流子产生层,此时充电电位V0,残余电势Vr, 表面电压衰减到一半时所需的能量 E1/2分别为720 V,20 V,0.72lx.s,光导器件的光电导性能最好.The preparation of high photosensitive TiOPc and the fabrication process of photoconductors were studied in the paper. The experimental results revealed that the high photosensitive TiOPc could be obtained in the o-dichlombenzene/water system by decompressed drying, and the photoconductor exhibited excellent photoconductivity while photosensitive TiOPc was dispersed in 2-butanone with M（PVC） ：m（PVB） = 1： 1 as the charge generating material （CGM）. Surface charging electric potential（V0）, residual electric potential（ Vr ） and sensitivity （ E1/2 ） are 720V, 20V, 0. 721x·s, respectively .

关 键 词：酞菁氧钛 载流子产生材料 光电导性 晶型 分散剂 

分 类 号：TN15[电子电信—物理电子学]