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作 者:邵忠财[1] 康凤娣[1] 郝清伟[1] 田彦文[2] 张弘[1]
机构地区:[1]沈阳理工大学环境与化学工程学院,沈阳110168 [2]东北大学材料与冶金学院,沈阳110004
出 处:《材料研究学报》2006年第5期528-532,共5页Chinese Journal of Materials Research
基 金:辽宁省自然科学基金No.2040189资助项目.
摘 要:将LF4铝合金在次亚磷酸钠复合体系中进行微弧氧化,研究了工艺条件对微弧氧化膜层的成膜速率和耐蚀性的影响.结果表明,电流密度、氧化时间、氧化液温度和搅拌强度等工艺条件对微弧氧化膜层的性能有很大的影响,找出了最佳工艺参数,并制备出厚度达80μm耐蚀性强的微弧氧化陶瓷膜.微弧氧化膜主要由Al、Si和O元素及少量P组成,其结构由致密层(内层)和疏松层(外层)构成,疏松层有许多气孔,内层光滑致密,具有很强的耐蚀性能.In the process of LF4 Al-alloy microarc oxidation (MAO) using an compound electrolytes containing sodium hypophosphate, the effect of current density, oxidation times, temperature of the solution and agitating intensity on the coating growth rate and the corrosion resistance was investigated. The compact ceramic coating with thickness of 80 μm and high corrosion resistance was obtained when MAO was performed in the optimum operation condition. The coating contained Al, Si, O and P, and consisted of an outer loose layer and an inner dense layer.
分 类 号:TB304[一般工业技术—材料科学与工程]
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