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机构地区:[1]北京科技大学材料科学与工程学院,北京100083
出 处:《北京科技大学学报》2006年第10期946-950,共5页Journal of University of Science and Technology Beijing
基 金:国家自然科学基金(No.50471093);北京市自然科学基金(No.2052014);新世纪优秀人才支持计划(NCEF-04-0104)资助项目
摘 要:使用磁控溅射法制备了一系列具有不同Pt中间层厚度的glass/NiO(1nm)/[Co(0.4nm)/Pt(0.5nm)]3/Pt(xnm)/[Co(0.4nm)/Pt(0.5nm)]3样品并对Co层之间的铁磁性耦合强度进行了测量.整体磁滞回线和局部磁滞回线的测量结果表明,上下两层Co/Pt多层膜之间的铁磁性耦合强度随着Pt中间层厚度的增加单调减小,当Pt中间层厚度超过4nm时铁磁性耦合消失.除了上下两层Co/Pt多层膜之间通过Pt中间层产生的铁磁性耦合作用之外,它们之间也存在弱的次耦合作用,这导致底层出现宽的磁滞.A series of glass/NiO(lnm)/[Co(0.4nm)/Pt(0.5nm)]3/Pt(x nm)/[Co(0.4nm)/Pt(0.5 nm) ]3 samples with different Pt interlayer thicknesses were prepared by magnetron sputtering to determine the ferromagnetic coupling between Co layers across the Pt layer. The measured results of major and minor hysteresis loops show that the ferromagnetic coupling between the top and bottom Co/Pt multilayer decreases monotonously with the increase of Pt layer thickness and disappears as the Pt layer thickness over 4 nm. In addition to the ferromagnetic coupling, there exists a weak biquadratic coupling, which induces the broad transition of the bottom Co/Pt multilayer.
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