32×32微镜阵列的ANSYS模拟和制造工艺研究  

ANSYS simulation and fabrication of 32×32 micromirror array

作　　者：赵悦[1] 赖建军[1] 陈坦[1] 史锡婷[1] 易新建[2] 余建华[3] 

机构地区：[1]华中科技大学光电子科学与工程学院,湖北武汉430074 [2]武汉光电国家实验室,湖北武汉430074 [3]深圳大学工程技术学院,广东深圳518060

出　　处：《激光杂志》2006年第6期28-29,共2页Laser Journal

基　　金：国防预研基金(51401010104JW05)

摘　　要：基于ANSYS软件模拟设计了单元镜面面积为60×60μm2的32×32元微反射镜阵列,其工作频率可达到30KHz,最大扫描偏转角度为±10°,响应时间少于30μs。同时提出了一种基于表面薄膜工艺的加工方法,成功制作了该32×32元的微镜阵列,并进行了初步测试。Based on a finite moment simulation with ANSYS software, a 32 × 32 microminrror array with pixel area of 60 × 60μm^2 was designed. The simulation has shown that the work frequency of micromirror array is reached to 30KHz, and the maximum deflection angle is±10°, while the response time can be less than 30μs. A surface - micremaehined process has been experinmntally established and the micromirror array was successfully fabricated. An initial result for deflection angle messurement is given.

关 键 词：微镜阵列 ANSYS模拟 化学镀 表面工艺 

分 类 号：TN248.1[电子电信—物理电子学]