上海EBIT装置微量气体注入系统的研制  

Gas Injection System for the Shanghai EBIT Facility

作　　者：安双利[1] 蒋迪奎[1] 郭盘林[1] 张海鸥[1] 

机构地区：[1]中国科学院上海应用物理研究所

出　　处：《真空科学与技术学报》2007年第1期1-4,共4页Chinese Journal of Vacuum Science and Technology

摘　　要：本文介绍了上海电子束离子阱(EBIT)装置微量气体注入系统的成功研制。文中阐述了该系统的总体设计,并运用Maxwellian速度分布理论及几何光学模型描述和分析了整个注入过程,重点计算了注气效率和中心漂移管处分子密度。现已投入运行,实验证明达到了设计指标,满足了实验使用要求。The gas injection system for Shanghai electron beam ion trap（EBIT） facility is successfuUy developed. The integrated design was described,and the full injection was analyzed by using Maxwellian velocity distribution theory and geometrical optics, especially for the injection efficiency and injected gas molecular density estimation. The system has been running with satisfactory results.

关 键 词：电子束离子阱 微量气体注入 几何光学模型 注气效率 分子密度 

分 类 号：TB71[一般工业技术—真空技术] TN107[电子电信—物理电子学]