界面质量守恒方程和一些生长层的自组织模型  

作　　者：吴金平[1] 李才伟[2] 肖文丁[3] 杨问华[1] 

机构地区：[1]中国地质大学应用化学系,武汉430074 [2]中国地质大学地球化学研究所,武汉430074 [3]中国科学院广州地球化学研究所,广州510640

出　　处：《中国科学（E辑）》1996年第6期501-510,共10页Science in China(Series E)

基　　金：国家自然科学基金资助项目

摘　　要：建立了晶体生长非稳态过程的界面质量守恒方程,为严格处理晶体生长中生长层的形成等非平衡非线性问题提供了基本的数学模型;还建立了助熔剂法单晶生长中杂质生长层形成的非线性自催化结晶反应动力学模型,对一些难以用现有理论解释的生长层起因,从自组织模式的形成方面作了讨论.

关 键 词：晶体生长 界面 质量守恒方程 生长层 自组织 

分 类 号：O781[理学—晶体学]