有机硅低聚体合成工艺  

出　　处：《有机硅材料》2007年第2期96-96,共1页Silicone Material

摘　　要：中北大学的杨锐等人采用甲基三乙氧基硅烷、二甲基二乙氧基硅烷、苯基三乙氧基硅烷为原料，采用部分水解工艺。制得含乙氧基的有机硅低聚物。通过正交分析确定最佳工艺条件为，原料配比nR／nSi为1．4，nPh／nR为0．2，反应时间2．5h，反应温度80℃。采用最佳工艺制得的低聚体的剪切强度可达2．92MPa。

关 键 词：低聚体 有机硅 合成工艺 甲基三乙氧基硅烷 二甲基二乙氧基硅烷 最佳工艺条件 原料配比 水解工艺 

分 类 号：TQ326.55[化学工程—合成树脂塑料工业]