电沉积Co—Ni合金的原子探针场离子显微分析  

作　　者：荆天辅 Mac.,RAD 

出　　处：《材料导报》1996年第A00期85-88,共4页Materials Reports

摘　　要：用位置敏感原子探针场离子的显微镜（ＰｏＳＡＰ）、ＴＥＭ、ＳＥＭ等方法研究了电沉积工艺参数对Ｃｏ－Ｎｉ合金微观结构的影响，结果表明，低频脉冲直流电沉积的Ｃｏ－Ｎｉ合金的平均晶粒尺寸为７０ｎｍ，恒稳直流电沉积的晶粒尺寸为１００ｎｍ。Ｃｏ原子在沉积层中呈均匀分布，且Ｃｏ含量随电解中Ｃｏ离子浓度增加而显著增加。当电解液中ＣｏＳＯ４含量为１７．５ｇ／Ｌ时，沉积层由εＣｏ和αＣｏ两相组成。

关 键 词：原子探针 纳米晶体 电沉积 钴合金 

分 类 号：TG146.16[一般工业技术—材料科学与工程] TG174.44[金属学及工艺—金属材料]