光学元件亚表面缺陷结构的蚀刻消除  

Eliminating of subsurface damage structure

作　　者：项震[1] 聂传继[1] 葛剑虹[1] 侯晶[2] 许乔[2] 

机构地区：[1]浙江大学现代光学仪器国家重点实验室,杭州310027 [2]成都精密光学工程研究中心,成都610041

出　　处：《强激光与粒子束》2007年第3期373-376,共4页High Power Laser and Particle Beams

基　　金：国家自然科学基金委-中国工程物理研究院联合基金资助课题(10476025)

摘　　要：针对强激光光学元件的应用要求,对光学材料在研磨和抛光过程中形成的亚表面缺陷进行了分析,并借鉴小工具数控抛光和Marangoni界面效应,提出采用数控化学刻蚀技术来实现光学表面面形和微结构形貌的高精度加工,对亚表面缺陷具有很好的克服和消除作用。通过实验对亚表面缺陷的分布位置和特性进行了分析,同时实验验证了在静止和移动条件下Marangoni界面效应的存在,对材料的定量去除进行了实验,提出了亚表面缺陷的去除方法。The sub-surface damage（SSD） in optied components formed in the process of whetting and polishing is analyzed. Utilizing the mechanism of wet etching and the Marangoni interface effect, CNC chemical etching technique is used to achieve high precision matching of optics surface and elimilate the SSD at the same time. The charactersitics and positions of SSD are analyzed experimently. SSD elimination method SSD is also presented.

关 键 词：化学刻蚀 Marangoni界面效应 亚表面缺陷 抛光 

分 类 号：TN244[电子电信—物理电子学]