Ni/α-Al_2O_3纳米复合电镀工艺的研究 第二部分──采用直流电源电镀时的最佳工艺参数  

Study on the Ni/α-Al_2O_3 nanocomposite plating Part Ⅱ─Optimal process under direct current plating

作　　者：刘建平 高中平 彭元芳 赵国鹏 曾振欧 

机构地区：[1]广州市二轻工业科学技术研究所,广东广州510170

出　　处：《电镀与涂饰》2007年第4期32-34,共3页Electroplating & Finishing

基　　金：广州市科技攻关项目(2002Z2-D2011);广州电沉积开放实验室资助项目

摘　　要：通过正交和单因素试验,得出采用直流电流电镀时,Ni/α-Al2O3纳米复合电镀的最佳工艺规范为:α-Al2O35～10g/L,分散剂5～10mL/L,阴极电流密度1～4A/dm2,pH4.0～4.8,温度50～60°C,空气搅拌强度0.4～0.5m3/h,并讨论了各因素的影响规律。Optimal Ni/α-Al2O3 composite plating conditions using direct current were obtained through orthogonal and single factor experiments： α-Al2O3 5 - 10 g/L, dispersants 5 10 mL/L, Jk 1 - 4 A/dm^2, pH 4.0 -4.8, 50 - 60 ℃, air agitation intensity 0.4 - 0.5 m^3/h. The influence of each parameter on the corrosion resistance of the obtained deposits was discussed.

关 键 词：纳米Α-AL2O3 复合电镀 耐蚀性 

分 类 号：TQ153.12[化学工程—电化学工业]