用XPS方法测量导电高聚物的功函数  

作　　者：郭可珍[1] 万梅香[1] 

机构地区：[1]中国科学院化学研究所,北京100080

出　　处：《分析仪器》1990年第2期64-67,共4页Analytical Instrumentation

基　　金：国家863高技术资助项目

摘　　要：本文论述利用XPS方法中二次发射电子测量导电高聚物功函数的方法。其测量原理是,被测样品和标准样品二次发射电子分布曲线所对应的起始点的动能之差与它们之间的功函数之差相等。因此,只要已知标准样品的功函数,即可根据上述关系求得被测样品的功函数。用该方法所得到的掺杂聚吡咯的功函数为5·0eV,与文献值一致。用此法测量了由不同聚合方法得到的中性和掺杂聚苯胺的功函数,两者功函数的区别与其结构相吻合。

关 键 词：二次电子 功函数 导电高聚物 

分 类 号：TQ317.3[化学工程—高聚物工业]