七甲川菁染料H-聚集体薄膜的线性及三阶非线性光学性能研究  

作　　者：元以中[1] 康海峰[1] 孙真荣[1] 王祖赓[1] 

机构地区：[1]光谱学与波谱学教育部重点实验室华东师范大学物理系

出　　处：《科学通报》2007年第7期748-751,共4页Chinese Science Bulletin

基　　金：国家自然科学基金(批准号:10234030和10574046);国家重点基础研究发展计划(编号:1999075204);教育部新世纪人才计划(批准号:NCET-04-0420);高等学校博士点基金(批准号:20050269011);上海市教委曙光学者计划(批准号:03SG23)资助项目

摘　　要：采用旋涂法制备了一种七甲川菁染料的超薄膜,利用原子力显微和紫外-可见吸收光谱等技术对膜的形貌和线性光谱性质进行了研究表征,结果表明染料在薄膜中形成了有序而稳定的H-聚集体.前向简并四波混频技术研究表明由于分子的聚集作用引起三阶非线性极化率的增大,利用集体谐振子模型初步分析和讨论了产生非线性效应增强的内在机制.

关 键 词：旋涂膜 H-聚集体 三阶非线性光学 

分 类 号：O484.41[理学—固体物理]