钴离子印迹聚合物的制备及性能研究  

Synthesis and Properties of Cobalt(II) Ion-Imprinted Polymer

作　　者：汪竹青[1] 吴根华[1] 汪婕[1] 王冬香[1] 王培三[1] 

机构地区：[1]安庆师范学院化学与化工学院

出　　处：《安庆师范学院学报（自然科学版）》2007年第1期87-88,91,共3页Journal of Anqing Teachers College(Natural Science Edition)

基　　金：安徽省教育厅自然科学基金资助项目(2002KJ201)

摘　　要：以Co2+为模板,十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)为表面活性剂,N-3-(三甲氧基硅基)丙基乙二胺(TPED)为功能单体,四乙氧基硅烷(TEOS)为交联剂,采用表面印迹法合成出钴离子印迹聚合物,并研究了印迹聚合物对Co2+的吸附性能。With cobalt ion as templates, cetyhrimethylammonium bromide （CTAB） as surfactant, N-[3-（trimethoxysilyl） propyl]ethylenediamine （TPED） as the functional monomer and tetraethoxysilane （TEOS） as the cross-linking agent, the ionimprinted polymer is prepared by the molecular imprinting technique and its adsorption property is also studied.

关 键 词：分子印迹聚合物 TEOS 钴 吸附率 

分 类 号：O657[理学—分析化学]