石墨在高纯氦中的高温氧化研究  

INVESTIGATION OF THE OXIDATION OF GRAPHITE IN HIGH PURITY HELIUM ATMOSPHERE

作　　者：白新德[1] 蔡俊[1] 甘东文[1] 陈鹤鸣[1] 尤嘉辉 

机构地区：[1]清华大学材料科学与工程系

出　　处：《原子能科学技术》1997年第1期84-88,共5页Atomic Energy Science and Technology

基　　金：冶金工业部腐蚀-磨蚀与表面技术开放实验室和清华大学实验室基金

摘　　要：研究了石墨在高纯氦中的氧化动力学行为。氧化后的样品用扫描电子显微镜进行分析，对可能的氧化机制进行了讨论。实验结果表明：高纯度、高强度、高密度石墨，即“三高”石墨在８００℃高纯氦中的氧化速率最低，等静压石墨次之。High temperature oxidation behaviors of three kinds of graphite are investigated in high purity He atmosphere.The oxidized samples are analysed using scanning electron microscope (SEM) .Possible oxidation mechanisms are discussed.The experimental results show that the oxidation rate of “three high” graphite is less than isostatic pressing graphite which is less than 010 graphite in high purity helium.

关 键 词：石墨 高温氧化 核反应堆 

分 类 号：TL342[核科学技术—核技术及应用]