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出 处:《电子学报》2007年第5期801-805,共5页Acta Electronica Sinica
摘 要:本文研究了用185nm UV和254nm UV照射方法降低高纯水中的TOC和废水中五种有机物的TOC,用185nm UV能有效地将高纯水中的TOC降低到(≤0.3μg/L),满足超大规模集成电路用水的需要.同时研究了用两种不同的紫外线185nmUV和254nmUV,对比照射降低水中难生物降解的有毒、有害的五种有机污染物(二苯甲酮、孔雀石绿、对氯苯酚(4-CP)、对硝基苯酚(4-NP)和罗丹明B(Rh B)的TOC,结果表明185nmUV,比254nmUV,降低有机物的TOC好得多.有利于环境保护.The abatement of total organic carbon(TOC),in high purity water by using 185mnUV and 254mnUV irradiation was studied.By this photodegradafion method,The TOC concentration in high purity water can be decreased to ≤0.3μg/L which meets the requirement for ULSI application. Besides, five kinds of waste water containing diphenyi keton, malachite green, 4-chlorophenol(4-CP) ,4-nitrophenol(4-NP), or Rhodamine B(Rh B), were treated by 185nmUV or 254nmUV irradiation. Experimental data showed that these toxic organic pollutants, which are difficult to degrade by 254nmUV inadiation are easily degradable by 185nmUV irradiation.
关 键 词:185nmUV 254nmUV 总有机碳(TOC) 高纯水 废水
分 类 号:TN304[电子电信—物理电子学]
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