超精细纳米结构加工技术  

Fabrication of ultrafine nanostructures

作　　者：张敬民[1] 廖志敏[1] 尤力平[1] 叶恒强[1] 俞大鹏[1] 

机构地区：[1]北京大学物理学院北京大学电子显微镜实验室,北京100871

出　　处：《电子显微学报》2007年第3期167-170,共4页Journal of Chinese Electron Microscopy Society

基　　金：国家973项目(2002CB613505)

摘　　要：利用高能会聚电子束的辐照损伤能力,在300 kV高分辨透射电镜中成功加工出小于5 nm的超精细纳米结构。加工精度在特征尺寸和空间位置上可同时达到一个纳米。加工的纳米结构具有原子尺度的边界,并可以通过高分辨像直接监视纳米结构的形成过程。这种技术可以广泛应用于各种无机材料,尤其适用于无机化合物。结合自动控制,这种技术可以用于加工任意复杂的二维纳米结构。Ultrafine nanostructures （feature size 〈 5 um） have been successfully fabricated with single-nanometre precision using the strong irradiation damage effect of convergent electron beam in a 300 kV high-resolution transmission electron microscope. This approach can be widely applied to inorganic： solid-state materials from insulators, semiconductors to metals. The feature size can be precisely controlled by the probe size and the irradiation time. Our approach is promising in design and fabrication of ultrafine nanostructures and nanodevices.

关 键 词：超精细纳米结构 高分辨透射电镜 纳米加工 

分 类 号：TB383.1[一般工业技术—材料科学与工程]