一种新型阴极研究装置  

作　　者：郝世明[1,2] 王慧芳[3] 杨建参[4] 

机构地区：[1]河南科技大学理学院 [2]北京工业大学材料科学与工程学院北京100022 [3]河南科技大学高温材料研究院 [4]北京工业大学材料科学与工程学院

出　　处：《科技咨询导报》2007年第19期3-4,共2页Science and Technology Consulting Herald

基　　金：国家863基金项目(2002AA322010);河南科技大学人才科学研究基金(05-079;05-118);河南科技大学青年科学研究基金(2006QN042)。

摘　　要：介绍了一种新型的专为阴极研究设计的与俄歇能谱仪(AES)相连的脉冲激光沉积(PLD)装置,本装置可以实现阴极薄膜的快速制备,测量发射性能和原位分析表面成分。简述了此装置在研究阴极表面发射机制最新应用。

关 键 词：阴极 脉冲沉积 薄膜 表面 发射机制 

分 类 号：TG146[一般工业技术—材料科学与工程] O484.5[金属学及工艺—金属材料]