聚二甲基硅氧烷/白炭黑体系的分子模拟  

Molecular simulation of polydimethylsiloxane/fumed silica systems

作　　者：王丽莉[1] 胡文军[2] 赵晓平[1] 何铁宁[1] 

机构地区：[1]中国工程物理研究院计算机应用研究所,绵阳621900 [2]中国工程物理研究院总体工程研究所,绵阳621900

出　　处：《原子与分子物理学报》2007年第4期689-693,共5页Journal of Atomic and Molecular Physics

基　　金：中国工程物理研究院行业科学技术预先研究基金(20030865);计算机应用研究所资助项目(05-0735)

摘　　要：用COMPASS分子力场的方法对聚二甲基硅氧烷(PDMS)分子链以及它们同白炭黑(SiO2)、改性SiO2粒子表面相互作用的分子体系进行了计算机模拟,得到了体系能量变化与PDMS分子链中Si原子移动距离的关系曲线,分析了产生和影响体系力学性能的化学过程本质,预测了宏观PDMS/SiO2体系的拉伸行为.The paper simulated the stretch behavior of polydimethylsiloxane（PDMS）single strand and the interaction of the PDMS polymers with the surfaces of Fumed silica （SiO2） and modified SiO2 particles using COMPASS force-field method, and achieved the relation curves of the system energy change and distance which Si atom in PDMS molecular moved, then analyzed the fundamental chemical processes which affect or contribute to material mechanic capability, and then doped the stress/strain behavior of macroscopical PDMS/ SiO2 systems.

关 键 词：聚二甲基硅氧烷 白炭黑 分子间相互作用 计算机模拟 

分 类 号：O6[理学—化学] TP3[自动化与计算机技术—计算机科学与技术]