阳离子表面活性剂(CTAB)修饰TiO_2的光催化性能研究  

Study on photocatalytic performance of TiO_2 modified with CTAB

作　　者：玄立春[1] 刘佳[1] 辛柏福[1] 

机构地区：[1]黑龙江大学化学化工与材料学院,黑龙江哈尔滨150080

出　　处：《黑龙江大学自然科学学报》2007年第3期368-371,共4页Journal of Natural Science of Heilongjiang University

基　　金：国家自然科学基金资助项目(20431030);黑龙江省教育厅科学技术研究基金项目(11522002);哈尔滨市科技创新人才基金(2006RFQXS096);黑龙江大学杰出青年基金资助项目(2005)

摘　　要：采用阳离子表面活性剂-十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)对TiO2(Degussa P25)进行了表面修饰,考察了体系pH值和CTAB用量对包覆效果及光催化性能的影响。利用表面光电压谱(SPS)揭示了CTAB表面修饰的作用机制。光催化降解罗丹明B实验结果表明,在pH=10,CTAB包覆量为10%时制备的催化剂活性达到最佳值,分析认为这是表面吸附和光催化降解共同作用的结果。The TiO2 nanoparticles （Degussa P25 ） were modified with cetyhrimethylammonium bromide （CTAB）. The effects of pH and CTAB content on photocatalytic performance were examined. The interaction mechanism between CTAB and TiO2 was revealed via SPS analysis. The results of photocatalytic experiment suggest that the photocatalytic activity of sample prepared at pH = 10 and m（CTAB） m： （TiO2） =1：10 reaches the maximum. This is interaction result between surface adsorb and photocatalytic degradation.

关 键 词：TIO2 CTAB 表面修饰 光催化 

分 类 号：O643[理学—物理化学]