流体二维振动抛光磨粒运动轨迹及流场分析  

作　　者：杨忠高[1] 牛克忠[1] 

机构地区：[1]广东工贸职业技术学院机电系,广东广州510510

出　　处：《科技咨询导报》2007年第21期194-195,共2页Science and Technology Consulting Herald

摘　　要：本文采用C语言作为工具对二维振动耦合的作用下磨料粒子的运动轨迹进行了初步的仿真分析,利用ANSYS软件模拟和分析了二维高频振动下的流场状态。最后通过初步实验验证了流体二维振动抛光效果的有效性。

关 键 词：流体二维振动 抛光 有限元 

分 类 号：TH122[机械工程—机械设计及理论]