含过渡层氧化铝膜制备  

作　　者：魏明坤[1] 王柱[1] 毛京元 

机构地区：[1]武汉工业大学新材料研究所

出　　处：《表面技术》1997年第1期42-43,共2页Surface Technology

摘　　要：用CVD法在铝表面同时沉积氧化铝和铜,在热扩散的作用下铜铝形成合金,使氧化铝和铝之间存在连续过渡层。这种氧化铝膜在厚度这100μm时仍和铝材有良好的结合强度。

关 键 词：过渡层 氧化铝 氧化膜 化学沉积 

分 类 号：TG174.451[金属学及工艺—金属表面处理]