化学镀工艺制备Mn-Zn铁氧体薄膜的结构和^(57)Fe背散射穆斯堡尔谱研究  

作　　者：孙建荣[1] 王学文[1] 刘锦宏[1] 王建波[1] 李发伸[1] 

机构地区：[1]兰州大学物理科学与技术学院磁学与磁性材料教育部重点实验室应用磁学研究所,兰州730000

出　　处：《科学通报》2007年第15期1732-1738,共7页Chinese Science Bulletin

基　　金：国家自然科学基金资助项目(批准号:90505007)

摘　　要：用水溶液化学镀工艺制备了不同膜厚,不同Zn含量的Mn1-xZnxFe2O4铁氧体薄膜.XRD衍射图像表明,通过化学镀工艺制备的薄膜样品呈现单一的尖晶石结构,是没有杂相和择优取向的多晶Mn-Zn铁氧体薄膜.SEM照片显示结晶良好的柱状晶垂直于玻璃基底生长.57Fe背散射穆斯堡尔谱的测量表明,化学镀工艺制得的Mn1?xZnxFe2O4铁氧体纳米晶薄膜的阳离子分布不同于块体材料;其占据四面体A位的Fe3+离子数目远高于块体材料,并由此导致薄膜样品的Ms明显地小于相应成分的块体值;随着Zn含量的增加,Zn2+对于A位表现出强烈的化学亲和性而优先占据A位,致使Fe3+不断地从四面体A位向八面体B位迁移;对于Mn0.5Zn0.5Fe2O4的样品,随着薄膜厚度的增加,B位的Fe3+数目增加,磁矩不再平行于薄膜平面排列并且磁矩与薄膜平面的夹角逐渐增大.宏观磁性测量结果表明,当x=0.5时,用水溶液化学镀工艺制备的Mn1-xZnxFe2O4的饱和磁化强度值最大,为419.6kA/m;而矫顽力则最小,为3.7kA/m.

关 键 词：MN-ZN铁氧体 薄膜 背散射穆斯堡尔谱 化学镀 

分 类 号：O484[理学—固体物理]